Centre de Recherche sur les Nanomateriaux et l'Énergie
 
Four Tubulaire Haute Température (HTF)
Emplacement : Composante Nanomatériaux (Local CB-3485)
Ressource : Gwenaël Chamoulaud ou Galyna Shul.

Description de l'instrument :


Le four tubulaire à haute température OTF-1200X-III utilise des tiges de carbure de silicium comme éléments chauffants. La température maximale à l'intérieur du four peut atteindre 1200C sous différentes flux du gaz (N2, mélange Ar/H2, O2, etc ..). Le profil de température du four peut être composé de 3 gradients distincts auxquels peuvent être appliqués 51 segments différents et exécutés automatiquement en utilisant le contrôleur de température avancée de type 708P. Ce four est utilisé principalement pour la recherche sur les matériaux et notamment pour mises au point de divers nouveaux matériaux.

Modèle de l'équipement : MTI Corporation, OTF-1200X-III


Four Tubulaire Haute Température (HTF), MTI Corporation, OTF-1200X-III

Frais d'utilisation :


Tarification de l'instrument
Tarifs académiquesTarifs industriels
$10.00/h$110.00/h
  • Ajouter 25$/h si les manipulations sont effectuées par un opérateur.
  • Ajouter 15% de frais administratifs si utilisateur industriel.

Modalités de Réservation :

  • Pour les usagers externes, communiquer avec Gwenaël Chamoulaud ou Galyna Shul.
  • Pour les usagers internes, tous les utilisateurs doivent suivre une formation avec Gwenaël Chamoulaud ou Galyna Shul avant d’utiliser cet équipement. Pour effectuer une réservation en ligne, cliquer sur le lien dans le tableau ci-dessous, puis cliquer sur la journée concernée. Un horaire détaillé de cette journée apparaîtra. Vous pourrez alors réserver la plage horaire qui vous convient.
  • Pour réserver cet équipement à partir de cette page, cliquez ici.